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小型濺射儀儀問儀答較近小伙伴對(duì)于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問的問題比較多,今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見的技術(shù)問題:1、膜厚檢測(cè)儀原理:膜厚監(jiān)測(cè)儀是采用石英晶體振蕩原理,利用頻率測(cè)量技術(shù)加上**的數(shù)學(xué)算法,進(jìn)行膜厚的在線鍍膜速率和實(shí)時(shí)厚度計(jì)算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過程中,對(duì)膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。2、濺射儀是否可以鍍鎳:可以鍍鎳 ?但是 鎳是導(dǎo)磁
磁控濺射技術(shù)原理及應(yīng)用簡(jiǎn)介
磁控濺射技術(shù)原理及應(yīng)用簡(jiǎn)介一、磁控濺射原理磁控濺射是一種常用的物相沉積(PVD)的方法,具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好,成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點(diǎn)。傳統(tǒng)的濺射技術(shù)的工作原理是:在高真空的條件下,入射離子(Ar+)在電場(chǎng)的作用下轟擊靶材,使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動(dòng)能脫離靶材表面,沉積在基片表面形成薄膜。但是,電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)的作用,產(chǎn)生漂移,因而導(dǎo)致傳濺射效率低,電
Q1: 什么是PVD? 真空電鍍加工真空鍍膜技術(shù)A1: PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫,中文意思是“物相沉積”,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。?? ? 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司新研發(fā)一款小型蒸鍍儀KT-Z1650DM是一款小型臺(tái)式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,
同軸真空BNC接頭是一種常見的射頻連接器,廣泛應(yīng)用于射頻和微波通信、數(shù)據(jù)處理及測(cè)量設(shè)備。BNC(Bayonet Neill-Concelman)接頭是由美國(guó)的Paul Neill和Carl Concelman于1945年發(fā)明的。以下是同軸真空BNC接頭的一些特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì):1. 易于連接和斷開:BNC接頭采用了快速卡口式結(jié)構(gòu),使得連接和斷開變得非常方便。用戶只需將插頭插入座子,然后旋轉(zhuǎn)90度即可完成連
公司名: 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
聯(lián)系人: 裴先生
電 話:
手 機(jī): 15136134901
微 信: 15136134901
地 址: 河南鄭州中原區(qū)鄭州**產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)西三環(huán)路289號(hào)6幢11單元3層73號(hào)
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