高低溫液體循環(huán)裝置在實驗室中的應用

時間：2024-08-23作者：無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司瀏覽：103

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  詞條說明

• 反應釜冷凍加熱一體機使用背景以及工作原理

  反應釜冷凍加熱一體機是基于在以往類似設備的缺點使用過程中，研發(fā)生產(chǎn)的一種全密閉動態(tài)控溫的制冷加熱控溫設備，那么，反應釜冷凍加熱一體機的使用原理你都了解嗎？ 一、反應釜冷凍加熱一體機使用背景 1、反應釜冷凍加熱一體機一般采用控制系統(tǒng)出口溫度，因為反應釜等傳熱大滯后換熱裝置，控制系統(tǒng)出口溫度與實際目標要控制的溫度滯后性太大，往往出現(xiàn)控溫精度不良，上下波動過大，影響產(chǎn)品品質。 2、反應釜冷凍加熱一體機

• 搭配功率器件溫度測試引起液擊的根源

  搭配功率器件溫度測試的液擊是壓縮機常見故障。發(fā)生液擊，表明系統(tǒng)或維護中一定存在問題，需要加以糾正。認真觀察分析系統(tǒng)的設計、施工和維護，不難找到引起液擊的根源。 1、什么是液擊：液態(tài)制冷劑或潤滑油隨氣體吸入壓縮機氣缸時損壞吸氣閥片的現(xiàn)象，以及進入氣缸后沒有在排氣過程迅出，在活塞接近上止點時被壓縮而產(chǎn)生的瞬間高液壓的現(xiàn)象通常被稱為液擊。 2、液擊可以在很短時間內造成壓縮受力件，如：排氣閥片、閥板、閥板

• 半導體行業(yè)冷熱循環(huán)裝置應用背景

  半導體行業(yè)冷熱循環(huán)裝置近幾年在半導體行業(yè)有一定程度上應用比較多，那么，半導體行業(yè)冷熱循環(huán)裝置的使用背景你們都了解多少呢？ 在芯片、晶元、液晶面板、集成電路等半導體產(chǎn)品生產(chǎn)加工過程中，半導體產(chǎn)品生產(chǎn)主工藝設備對加工溫度有著很苛刻的要求。主工藝設備在半導體產(chǎn)品加工過程中，需要維持恒定的環(huán)境溫度，如果配套控溫設備溫度波動過大就會造成廢品和殘次品，引起不必要的經(jīng)濟浪費。 半導體行業(yè)工藝設備配套的控溫設備

• 新能源電機油冷冷卻系統(tǒng)的優(yōu)勢介紹

  新能源電機油冷冷卻系統(tǒng)是應用在新能源行業(yè)中的冷卻設備，除了油冷還有水冷也是被大眾熟知的，那么，這兩種冷卻方式的優(yōu)勢是怎么樣的呢？ 新能源行業(yè)中電動機、電控單元和減速器做成三合一的一體設計，而都要發(fā)出熱量的電控單元和電機都通過水冷系統(tǒng)散熱。當前BEV驅動電機主要以水冷方式為主，而在HEV/PHEV上多采用與發(fā)動機、變速箱更方便集成的油冷電機。 水冷技術是目前用的比較多的散熱方式，但是由于電機高溫部