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Pfeiffer?分子泵組應用于紅外原位分析平臺紅外原位瞬態(tài)反應過程分析實驗平臺是與世界實驗室同步水平研究的變溫變壓綜合實驗設備, 由原位吸附高真空系統(tǒng), 低溫系統(tǒng), 氣液物料, 探針凈化控制系統(tǒng)和壓力突變等部件組成, 可用于開展樣品的熱脫附, 熱解, 探針分子飽和吸附和探針分子脈沖微吸附等復雜反應過程研究.紅外原位分析平臺的主要特點是對固體材料進行嚴格的高真空和高溫預處理, 可在高真空
上海伯東是美國?HVA 高真空和高真空閥門中國總代理!?HVA?是美國大的真空閥門制造商, 在美國有過四十年的歷史, 擁有6萬平方英尺的全自動加工工廠,?HVA?提供高質(zhì)量, 準確, 客制化的真空閥門. 無論是生產(chǎn)線升級, 還是新設備制造,?HVA?都能提供經(jīng)濟有效的閥門解決方案, 其中高真空閘閥現(xiàn)已廣泛應用于半導體氣體管路和各
上海伯東 Pfeiffer 普發(fā)分子泵維修保養(yǎng)服務
上海伯東是德國普發(fā) Pfeiffer 授權銷售維修中心, 自 2002年以來, 已累計為過 100, 000+ 家企業(yè)提供維修保養(yǎng)服務, 客戶遍布工業(yè), 科研, 鍍膜和半導體行業(yè), 維修中心使用 100 % Pfeiffer 原廠部件和原裝進口檢測設備對維修產(chǎn)品做全方面的性能測試, 上海伯東擁有完全的拆解, 維修能力, 提供快速, 高質(zhì)量的維修保養(yǎng)服務.?伯東公司在上海,?臺
KRi 大面積射頻離子源應用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)
上海伯東美國?KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源? RFICP 380, RFICP 220 成功應用于 12英寸和 8英寸 IBE? 離子束蝕刻機, 刻蝕均勻性(1 σ)達到< 1%. 可以用來刻蝕任何固體材料, 包括金屬, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半導體, 絕緣體, 導體等.離子束刻蝕屬于干法刻蝕, 其部件為大面積離子源. 作為蝕刻機的部件,
公司名: 伯東企業(yè)(上海)有限公司
聯(lián)系人: 葉南晶
電 話: 021-50463511
手 機: 13918837267
微 信: 13918837267
地 址: 上海浦東高橋上海浦東新區(qū)新金橋路1888號36號樓7樓702室
郵 編:
網(wǎng) 址: hakuto2010.cn.b2b168.com
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